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產(chǎn)品服務(wù): | 分析儀器 | ||
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產(chǎn)品型號(hào): | LC-9000 | ||
產(chǎn)品規(guī)格: | LC-9000 | ||
產(chǎn)品品牌: | |||
所 在 地: | 江蘇省南京市 | ||
產(chǎn)品單價(jià): | 計(jì)量單位: | 套 | |
供貨總量: | 50 | 最小訂量: | 1 |
更新時(shí)間: | 2024-11-04 | 有 效 期: | 2025-02-04 |
瀏覽次數(shù): | 2689 |
企業(yè)名稱: | 南京聯(lián)創(chuàng)分析儀器制造有限公司 |
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經(jīng)營(yíng)模式: | 制造業(yè) |
企業(yè)主頁(yè): | http://www.lcfxyq.com/ |
聯(lián) 系 人: | 徐飚 |
電 話: | 86-025-57319096 |
傳 真: | 86-025-57889786 |
郵 箱: | |
郵 編: | 211300 |
地 址: | 江蘇省南京市 江蘇省南京市高淳區(qū)淳溪鎮(zhèn)寶塔路258號(hào)38-341 |
LC-9000型全譜直讀光譜儀
一、產(chǎn)品概述
高性能、靈活性臺(tái)式全譜直讀光譜儀LC-9000,是公司全新設(shè)計(jì)的流線型桌面光譜儀,滿足冶煉、金屬制造和機(jī)械加工的用戶要求,采用全電腦控制全數(shù)字火花光源,運(yùn)用CCD檢測(cè)技術(shù)及獨(dú)立特點(diǎn)的真空光室可準(zhǔn)確測(cè)定非金屬元素中C、P、S以及各種合金元素含量,實(shí)現(xiàn)全譜分析。測(cè)定結(jié)果準(zhǔn)確,重現(xiàn)性及長(zhǎng)期穩(wěn)定性較佳。
二、產(chǎn)品配置及特點(diǎn)
1、采用獨(dú)立特點(diǎn)設(shè)計(jì)的真空光室可準(zhǔn)確測(cè)定非金屬元素中C、P、S以及各種合金元素含量,測(cè)定結(jié)果準(zhǔn)確,重現(xiàn)性及長(zhǎng)期穩(wěn)定性較佳。
2、獨(dú)立特點(diǎn)的真空光學(xué)室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),使真空室容積更小,抽真空速度不到普通光譜儀的一半。將入射窗與真空室分離使入射窗日常清洗維護(hù)方便快捷。
3、光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描,自動(dòng)光路校準(zhǔn),確保譜線接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。
4、獨(dú)立特點(diǎn)的激發(fā)臺(tái)及氬氣氣路設(shè)計(jì),大大降低了氬氣使用量。靈活的樣品夾設(shè)計(jì),以滿足客戶現(xiàn)場(chǎng)的各種形狀大小的樣品分析。
5、不增加硬件設(shè)施的情況下,即可實(shí)現(xiàn)多基體分析。相比光電倍增管光譜儀可大大降低客戶使用成本及使用范圍。
6、采用國(guó)際較先進(jìn)的噴射電及技術(shù),在激發(fā)狀態(tài)下,電及周圍會(huì)形成氬氣噴射氣流,這樣在激發(fā)過(guò)程中激發(fā)點(diǎn)周圍不會(huì)與外界空氣接觸,提高激發(fā)精度。
7、專用的光譜操作軟件兼容于windows系統(tǒng)。同時(shí)可以根據(jù)客戶需求配備各種語(yǔ)言版本。軟件操作簡(jiǎn)單即使沒(méi)有任何光譜儀知識(shí)及操作經(jīng)驗(yàn)的人員只需經(jīng)過(guò)簡(jiǎn)單的知識(shí)培訓(xùn)即可上手使用。
8、采用高性能FPGA、DSP及ARM處理器,具有超高速數(shù)據(jù)采集分析功能,并能自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、、激發(fā)光源等模塊的運(yùn)行狀況。
9、全數(shù)字化等等離子激發(fā)光源,超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。全數(shù)字激發(fā)脈沖,確保激發(fā)樣品等離子體能量超高分辨率和高穩(wěn)定輸出。滿足各種不同材料的激發(fā)要求。
10、樣品激發(fā)臺(tái)采用銅火花臺(tái)底座,鎢材料電及;銅火花臺(tái)底座為激發(fā)臺(tái)提供較好的散熱及堅(jiān)固等特性,同時(shí)鎢電及使用壽命長(zhǎng),耐高溫等特性也提高了激發(fā)的性能;電及自吹掃功能的設(shè)計(jì),為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境,也使激發(fā)臺(tái)清潔電及更加容易。
三、主要技術(shù)參數(shù)
1、分析基體: Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb等
2、光學(xué)結(jié)構(gòu) :帕邢-龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
3、波長(zhǎng)范圍: 160-650nm
4、焦距: 400mm
5、光柵刻線: 3000條/mm
6、探測(cè)器: 高性能CCD陣列,每塊CCD 3,648 像素
7、CCD像素分辨率: 6pm
8、電及: 鎢材噴射電及
9、分析間隙: 樣品臺(tái)分析間隙:4mm
10、光源類型: 全新可調(diào)節(jié)數(shù)字化光源,高能預(yù)燃技術(shù)(HEPS)
11、激發(fā)頻率: 100-1000Hz
12、放電電流: 不大于400A
13、真空系統(tǒng): 真空軟件自動(dòng)控制、監(jiān)測(cè)